真空鍍膜儀主要用來(lái)在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜，用來(lái)提高樣品的表面導(dǎo)電性能，同時(shí)由于厚度僅為幾個(gè)納米，可以很好保持樣品原始的表面形貌。

 

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時(shí)具有這兩種功能。能夠滿(mǎn)足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動(dòng)電腦控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等全過(guò)程，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便。

 

主要技術(shù)參數(shù)：

 

· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

· 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度

· 可選石英膜厚檢測(cè)器，精確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm

· 全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過(guò)程

· 觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便

· 真空度7×10-3mbar

· 濺射電流：0-150mA可調(diào)

· 方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)，樣品倉(cāng)尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

· 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm